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多源电子束物理气相沉积系统(IMCAS-MEBPVD)
主要功能及特色:

    高性能数值模拟和精细实验相结合,在细致了解蒸气粒子运动轨迹的基础上,设计和优化薄膜沉积工艺。循此思路,我们首先精心研制了多源电子束物理气相沉积系统(IMCAS-MEBPVD电子束共沉积制备大面积金属或陶瓷膜,可同时沉积4个组元,每一个过程可最多沉积7种组分。

    基于IMCAS-MEBPVD的优越性能和高性能数值模拟与精细实验相结合的研究思路,我们成功解决了6英寸铜薄膜和钇薄膜沉积中的厚度均匀性问题,并研制了4英寸钛酸锶高K功能薄膜。

主要技术指标:
   系统由真空和喷流、蒸发和控制、运动和加热、飞行时间质谱仪、IMCAS-3R-PVD软件等5部分组成。
1、极限真空压力4.6×10-5Pa,工作真空压力优于3.0×10-3Pa;
2、3支电子枪同时工作时相互无电磁干扰,控制精度为0.2?/s;
3、自主研制的新型真空辐射加热器可将基片表面温度加热到1200K
联系方式
联系人:      舒勇华
电子邮件:   yhshu@imech.ac.cn
联系电话:   82544028