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| MIP系列多弧离子镀膜设备 | |
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| 主要功能及特色: MIP系列多功能离子镀膜设备是采用低电压大电流真空阴极放电技术（物理气相沉积PVD技术）直接将阴极材料(被蒸镀材料)蒸发并离化,形成高度电离的等离子体束,这些高能粒子在工件偏压的作用下,沉积在工件表面上，生成各种金属薄膜。当通入反应气体，如N2或C2H2时,可以生成各种氮化物或碳化物薄膜(如TiN, (TiAl)N, CrN, ZrN和TiC, TiNxCy等)牢固地涂敷在工件表面上。
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主要技术指标： 高的沉积速率，低的沉积温度(100°-500°C)； 高的电离度(75-95%)，高的沉积能量(10-100eV)； 高的空间利用率和高的生产效率； 可控电弧斑点，涂层细腻； 工作可靠，操作简单，工艺控制灵活，易于维修； 膜层致密、均匀，与底材结合好； 底材多样，涂层丰富，易实现难熔金属及其化合物的蒸镀。
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| 联系方式 | |
| 联系人: 张勇 | |
| 电子邮件： jlshi@imech.ac.cn | |
| 联系电话： 82544224 | |