科研队伍
  • 姓名： 许亿
  • 性别： 男
  • 职称： 副高级
  • 学历： 博士研究生
  • 电话： 010-82544266
  • 传真： 
  • 电子邮件: xuyi@imech.ac.cn
  • 通讯地址 北京市海淀区北四环西路15号

    简历：

  • 2007.9-2011.7   河北科技大学         材料成型及控制工程  学士学位

    2011.9-2012.7   北京航空航天大学                材料加工工程      硕士研究生

    2012.9-2018.3   北京航空航天大学       材料加工工程      博士学位

    2018.4-至今  中国科学院力学研究所          宽域飞行工程科学与应用中心

    研究领域：

  • 主要从事离子化物理气相沉积（IPVD）方面的基础科学研究和应用开发工作，在真空镀膜装备研制方面有丰富的理论和实际经验，
    主要包括：

    1．高能脉冲磁控溅射（HiPIMS），全方位离子注入，真空阴极弧离子镀，离子/电子源增强真空镀膜技术

    2．等离子体放电特性诊断与数值模拟技术

    3．高性能防护涂层的设计制备与力学、摩擦、腐蚀、电学性能研究（高熵合金涂层、碳/氮基功能化涂层、超硬纳米复合涂层等）

    4．稀土永磁材料表面绿色防护和高效重稀土晶界扩散技术

    招收研究生： 欢迎材料科学与工程、机械工程、物理学专业学生报考！

    社会任职：

  •  下列期刊同行评议专家：Applied Surface Science, Surface and Coatings Technology，Coatings

     

    获奖及荣誉：

  • 1．2017-PBII&D国际会议最佳展示奖（Best Poster Award）

    2．2019首届“包头稀土杯”科技创新邀请赛二等奖

    代表论著：

  • （1）Y. Xu, G.D. Li, G. Li, F.Y.Gao, Y.Xia, Effect of bias voltage on the growth of super-hard (AlCrTiVZr)N high-entropy alloy nitride films synthesized by HiPIMS, Applied Surface Science, 64(2021)150417.

    （2）Y. Xu, G. Li, Y.Xia, Synthesis and characterization of super-hard AlCrTiVZr high-entropy alloy nitride films deposited by HiPIMS, Applied Surface Science, 523(2020) 146529.

    （3）Y. Xu, G. Li, Y. Xia, Effect of Cr Atom Plasma Emission Intensity on the Characteristics of Cr-DLC Films Deposited by Pulsed-DC Magnetron Sputtering, COATINGS, 10(2020) 608.

    （4）Y. Xu, L.H. Li, P.K. Chu, Deposition of diamond-like carbon films on interior surface of long and slender quartz glass tube by enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation, Surface and Coatings Technology, 265(2015) 218-221.

    （5）Y. Xu, L.H. Li, J. Luo, K. Jing, J.Q. Zhao, Researches on uniformity of diamond-like carbon films deposited on inner surface of long and slender quartz glass tube by enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation and deposition, Surface and Coatings Technology, 280(2015) 81-85.

    （6）Y. Xu, L.H. Li, S. D. Luo, Q.Y. Lu, J.B. Gu, N. Lei, C. Q. Huo, Self-enhanced plasma discharge effect in the deposition of diamond-like carbon films on the inner surface of slender tube, APPL. SURF. SCI., 393(2017) 467-473.

    （7）许亿，李刘合, 细管内壁沉积薄膜取得重要进展, 中国表面工程, (2016) 130.

    （8）许亿，李光, 陈玉玺, 王同会, 李德胜, 王巍智, 夏原, 25MnV钢矿用圆环链热浸镀铝及其力学性能的研究, 热加工工艺, (2020) 1-5.

    （9）G.D. Li, M.Fei, Y.Xu, G. Li, Y.Xia, Influence of Applied Frequency on Thermal Physical Properties of Coatings Prepared on Al and AlSi Alloys by Plasma Electrolytic Oxidation, COATINGS, 11(2022) 1439.

    （10）J.B. Gu, L.H. Li, M. Ai, Y. Xu, Y. Xu, G. D. Li, D. Deng, H. Peng, S.D. Luo, P.P.Zhang, Improvement of solid particle erosion and corrosion resistance using TiAlSiN/Cr multilayer coatings, Surface and Coatings Technology, 402(2020) 126270.

    （11）G. D. Li, J. F. Sun, Y. Xu, Y. Xu, J. B. Gu, L. Wang, K. Huang, K. L. H. Li, Microstructure, mechanical properties, and cutting performance of TiAlSiN multilayer coatings prepared by HiPIMS, Surface and Coatings Technology, 353(2018) 274-281.

    （12）J. B. Gu, L. H. Li, M. Hu, Y. Xu, Y. Xu, Effect of C2H2/N2partial pressure ratio on microstructure and mechanical properties of Ti-Al-Si-C-N coatings, Surface and Coatings Technology, 365(2019)200-207.

    （13）H. T. Liu, L. H. Li, J. B. Gu, Q. Wang, K. Huang, Y. Xu, Research on unusual cathode erosion patterns in the process of filtered cathodic vacuum arc deposition, The International Journal of Advanced Manufacturing Technology, 96(2018) 1779-1785.

    （14）Q. S. Ma, L. H. Li, Y. Xu, J. B. Gu, L. Wang, Y. Xu, Effect of bias voltage on TiAlSiN nanocomposite coatings deposited by HiPIMS, APPL. SURF. SCI., 392(2017) 826-833.

    （15）Q. S. Ma, L. H. Li, Y. Xu, X. Ma, Y. Xu, H. T. Liu, Effect of Ti content on the microstructure and mechanical properties of TiAlSiN nanocomposite coatings, International Journal of Refractory Metals and Hard Materials, 59(2016) 114-120.

    （16）J. Luo, L.H. Li, H.T. Liu, K.M. Yu, Y. Xu, X.J. Zuo, P.Z. Zhu, Y.F. Ma, R.K.Y. Fu, P.K. Chu, Improved ion implant fluence uniformity in hydrogen enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation into silicon, Review of scientific instruments, 85(2014) 63506.

    （17）李刘合, 刘红涛, 罗辑, 许亿, 带状真空电弧磁过滤器等离子体分布特性及制备类金刚石膜研究, 物理学报, (2016) 237-245.

    （18）马璇, 李刘合, 刘红涛, 许亿, 马全胜, 朱鹏志, 溅射工艺参数对TiAlSiN涂层硬度及膜基结合力的影响, 真空科学与技术学报, (2016).


    发明专利：

    （1）一种电子增强等离子体放电管内壁涂层的方法；专利号：201410197223.1

    （2）一种空心阴极放电变径金属管内壁涂层的装置和方法；专利号：201610188602.3

    （3）一种离子注入或注入且沉积系统；专利号：201710121676.X

    （4）一种钕铁硼磁体表面防护的复合改性方法；专利号：201910314786.7

    （5）一种高熵合金组合物、高熵合金薄膜及高熵合金靶材和薄膜的制备方法；专利号：202010316745.4

    （6）一种类金刚石薄膜的制备方法；专利号：202010317118.2

    （7）一种可同时提高烧结钕铁硼磁体矫顽力和耐蚀性的方法；专利号：20201149685.6

    承担科研项目情况：

  • （1）科技部, 国家重点研发计划“稀土新材料”重点专项子课题，多主相钕铁硼磁体重稀土极致应用关键技术研究, 2021年~2025年

    （2）清华大学摩擦学国家重点实验室, 横向课题，高性能空间固体润滑涂层制备技术，2021年~2023年

    （3）包头市科技局, 双创支持项目, NdFeB磁体真空镀膜防护涂层研究, 2021年~2022年

    （4）包头市科技局, “1+1”行动特别计划, NdFeB磁体真空镀膜防护涂层项目研究团队, 2019年~ 2021年

    （5）中国科学院, 中国科学院科技服务网络计划（STS计划）, NdFeB磁体铝基非晶涂层产业化技术, 2020年~ 2021年

    （6）中国科学院, 仪器设备功能开发技术创新项目，等离子体增强高离化率电子束PVD装置研发, 2019年~2021年

    （7）国家自然科学基金委员会, 面上项目，基于液相放电铝表面减磨催化陶瓷层制备的基础科学问题, 2019年~ 2022年